顯微組分組與礦物檢測:檢測項目與技術(shù)要點
一、核心檢測項目
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- 目的:確定樣品中礦物的種類、含量及共生關(guān)系。
- 檢測方法:
- X射線衍射(XRD):通過晶體衍射圖譜比對標準數(shù)據(jù)庫(如ICDD PDF-4+),定量分析礦物相。
- 掃描電鏡-能譜聯(lián)用(SEM-EDS):結(jié)合背散射電子成像(BSE)定位礦物區(qū)域,利用能譜分析元素組成。
- 關(guān)鍵參數(shù):半定量誤差(<5%)、特征峰匹配度(>90%)。
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- 檢測內(nèi)容:
- 礦物顆粒形態(tài)(自形/半自形/他形)
- 孔隙度與裂隙分布(利用圖像分析軟件如ImageJ定量統(tǒng)計)
- 礦物定向排列(巖石組構(gòu)分析)
- 技術(shù):偏光顯微鏡(PLM)、激光共聚焦顯微鏡(CLSM)、電子背散射衍射(EBSD)。
- 檢測內(nèi)容:
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- 硬度與解理:顯微硬度計(維氏/努氏硬度)、壓痕法結(jié)合SEM觀察。
- 熱穩(wěn)定性:熱重-差熱聯(lián)用(TG-DTA)分析礦物熱分解行為。
- 磁性檢測:振動樣品磁強計(VSM)區(qū)分磁性礦物(如磁鐵礦、赤鐵礦)。
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- 重點:查明元素在礦物晶格中的存在形式(類質(zhì)同象、吸附態(tài)或獨立礦物相)。
- 技術(shù):
- 激光剝蝕-電感耦合等離子體質(zhì)譜(LA-ICP-MS)
- 同步輻射X射線吸收譜(XANES/EXAFS)
二、標準化檢測流程
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- 制樣步驟:切割→拋光(金剛石懸浮液至0.25μm)→鍍膜(SEM樣品需噴鍍碳/金層)。
- 關(guān)鍵要求:避免人為裂隙、污染;薄片厚度(30μm)需滿足透射光分析。
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- XRD校準:使用標準硅粉校正角度偏差(2θ誤差<0.02°)。
- SEM參數(shù)優(yōu)化:加速電壓(通常15-20kV)、工作距離(WD=10mm)、能譜采集時間(>60s以提高信噪比)。
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- 軟件支持:
- XRD分析:Jade、HighScore Plus
- 礦物定量:Rietveld全譜擬合
- 顯微圖像處理:Fiji(ImageJ)、AZtecCrystal(EBSD數(shù)據(jù))
- 誤差控制:重復測試(n≥3)、采用內(nèi)標法(如XRD添加10%剛玉標樣)。
- 軟件支持:
三、應用場景與行業(yè)標準
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- 礦石可選性評價(如黃銅礦與脈石礦物解離度分析)
- 礦床成因研究(礦物世代關(guān)系與成礦溫度壓力條件)
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- 陶瓷/合金中的晶界偏析分析
- 水泥熟料礦物相(C3S、C2S)含量檢測(ASTM C1365)
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- 土壤重金屬賦存形態(tài)分析(BCR連續(xù)提取法結(jié)合μ-XRF)
- 古陶瓷釉料礦物溯源(LA-ICP-MS元素成像)
四、質(zhì)量控制與挑戰(zhàn)
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- 制樣缺陷(如拋光殘留劃痕導致EDS誤判)
- 礦物顆粒過細(<1μm)導致XRD鑒定困難
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- 高光譜成像(Hyperspectral Imaging)快速識別礦物分布
- 人工智能礦物識別(基于深度學習模型如ResNet)
五、
- Rietveld, H.M. (1969). Journal of Applied Crystallography.
- Goldstein, J.I. et al. (2017). Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis.
- ASTM International. (2022). Standard Guide for Quantitative Analysis by XRD.
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