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GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質譜檢測方法
GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質譜檢測方法，本標準規定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次離子質譜檢測方法。本標準適用于用二次離子質譜法(SIMS)檢測鏡面拋光單晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每種金屬總量。本標準適用于所有摻雜種類和摻雜濃度的硅片。
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GB/T 24577-2009熱解吸氣相色譜法測定硅片表面的有機污染物
GB/T 24577-2009熱解吸氣相色譜法測定硅片表面的有機污染物，本標準規定了硅片表面的有機污染物的定性和定量方法,采用氣質聯用儀或磷選擇檢測器或者兩者同時采用。
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GB/T 24579-2009酸浸取 原子吸收光譜法測定多晶硅表面金屬污染物
GB/T 24579-2009酸浸取 原子吸收光譜法測定多晶硅表面金屬污染物，本標準規定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質,并用石墨爐原子吸收定量檢測多晶硅塊表面上的痕量金屬雜質分析方法。
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GB/T 24581-2009低溫傅立葉變換紅外光譜法測量硅單晶中III、V族雜質含量的測試方法
GB/T 24581-2009低溫傅立葉變換紅外光譜法測量硅單晶中III、V族雜質含量的測試方法，本標準適用于檢測硅單晶中的電活性元素硼(B)、磷(P)、砷(As)、鋁(Al)、銻(Sb)和鎵(Ga)的含量。
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GB/T 24582-2009酸浸取 電感耦合等離子質譜儀測定多晶硅表面金屬雜質
GB/T 24582-2009酸浸取 電感耦合等離子質譜儀測定多晶硅表面金屬雜質，本標準規定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質,并用電感耦合等離子質譜儀定量檢測多晶硅表面上的金屬雜質痕量分析方法。本標準適用于堿金屬、堿土金屬和第一系列過渡元素如鈉、鉀、鈣、鐵、鎳、銅、鋅以及其他元素如鋁的檢測。
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GB/T 24583.1-2009釩氮合金 釩含量的測定 硫酸亞鐵銨滴定法
GB/T 24583.1-2009釩氮合金 釩含量的測定 硫酸亞鐵銨滴定法，本部分規定了硫酸亞鐵銨滴定法測定釩含量。本部分適用于釩氮合金中釩含量的測定。
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GB/T 24583.4-2009釩氮合金 碳含量的測定 紅外線吸收法，本部分規定了紅外線吸收法測定碳含量。本部分適用于釩氮合金中碳含量的測定。
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GB/T 24583.5-2009釩氮合金 磷含量的測定 鉍磷鉬藍分光光度法
GB/T 24583.5-2009釩氮合金 磷含量的測定 鉍磷鉬藍分光光度法，本部分規定了紅外線吸收法測定碳含量。本部分適用于釩氮合金中碳含量的測定。
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