X射線光電子能譜(XPS-EDS)
廠家： Ulvac-PhI
型號：PHI 5000 VersarProbe II
技術指標
發射源：Al/Mg雙陽極
較小分辨率：0.48 eV
取樣深度：3nm
較大真空壓力：主分析室6.7×10-8Pa或更小
主要功能
X射線光電子能譜儀主要用于元素的定性分析，固體材料表面組成分析，材料化學狀態分析，元素成分的深度分析 樣品的原位處理，高分子材料的表面和界面研究，化合物的結構分析 ，還可以對材料表面的不均勻腐蝕，缺陷等進行微區差異性分析，確定缺陷的成分，為選材和判斷失效提供幫助。
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